ISO 14644-10 kontaminasi bahan kimia

ISO 14644-10 adalah Standar Internasional mengenai ruang bersih dan lingkungan terkendali, khususnya tentang penilaian kebersihan permukaan untuk kontaminasi bahan kimia.

Versi terbaru yang masih berlaku dari standar ini adalah terbitan tahun 2022 dengan judul berikut :

  • ISO 14644-10:2022 Cleanrooms and associated controlled environments — Part 10: Assessment of surface cleanliness for chemical contamination

Standar ISO 14644-10:2022

Sebagaimana tercantum dalam Klausa “1 Scope : Lingkup”, bahwa :

Dokumen ini menetapkan proses pengujian yang tepat untuk menentukan kebersihan permukaan di ruang bersih sehubungan dengan keberadaan senyawa atau elemen kimia (termasuk molekul, ion, atom, dan partikel).

Serta berlaku untuk semua permukaan padat di ruang bersih dan lingkungan terkontrol terkait seperti dinding, langit-langit, lantai, permukaan kerja, peralatan, peralatan, dan perangkat.

Catatan :

  • Untuk tujuan dokumen ini, pertimbangan hanya diberikan pada karakteristik kimia suatu partikel. Sifat fisik partikel tidak dipertimbangkan dan dokumen ini tidak mencakup interaksi antara kontaminasi dan permukaan.
  • Dokumen ini tidak mencakup proses timbulnya kontaminasi atau pengaruh yang bergantung pada waktu (misalnya pengendapan, sedimentasi, penuaan) atau aktivitas yang bergantung pada proses seperti transportasi dan penanganan. Juga tidak termasuk panduan tentang teknik pengendalian kualitas statistik untuk memastikan kepatuhan.

Penerbitan Standar ISO 14644-10:2022

Standar ini diterbitkan dan dipublikasikan pada Mei 2022, berupa dokumen edisi 2 dengan jumlah halaman sebanyak 31 lembar.

Disusun oleh :

  • Technical Committee ISO/TC 209 Cleanrooms and associated controlled environments, atau : Komite Teknis ISO/TC 209 Cleanrooms dan lingkungan terkontrol terkait.

ICS :

  • 13.040.35 Cleanrooms and associated controlled environments, atau : 13.040,35 Kamar bersih dan lingkungan terkontrol terkait

Dengan terbitnya standar ini, maka standar sebelumnya dinyatakan tidak berlaku dan ditarik yakni ISO 14644-10:2013.

Sebagaimana standar ISO lainnya, ISO 14644-10:2022 ini juga ditinjau setiap 5 tahun dan peninjauan sudah mencapai tahap 60,60.

Isi Standar ISO 14644-10:2022

Berikut adalah kutipan isi Standar ISO 14644-10:2022 yang diambil dari Online Browsing Platform (OBP) dari situs resmi iso.org.

Yang ditambah dengan berbagai keterangan dan informasi untuk mempermudah pemahaman pembaca.

Hanya bagian standar yang informatif yang tersedia untuk umum, OBP hanya menampilkan hingga klausa 3 saja.

Oleh karena itu, untuk melihat konten lengkap dari standar ini, maka pembaca harus membeli standar dari ISO ini secara resmi.

Daftar Isi Standar ISO 14644-10:2022

  • Foreword
  • 1 Scope
  • 2 Normative references
  • 3 Terms and definitions
  • 4 Testing and grading surface chemical levels
  • 4.1 Principles for testing the surface chemical contamination levels of clean surfaces in cleanrooms and controlled environments
  • 4.2 ISO SCC descriptor format
  • 4.3 ISO-SCC grade level
  • 4.4 Converter for substances into surface atomic concentration
  • 5 Measuring the cleanliness of surfaces for chemical contamination and demonstration of grade level compliance
  • 5.1 Criteria for good cleanliness assessment
  • 5.2 Documentation and reporting
  • Annex A Conversion between different unit expressions of surface concentration for chemical substances
  • A.1 Principle
  • A.2 Examples
  • Annex B Parameters influencing testing and interpretation of results
  • B.1 Parameters
  • B.2 Considerations
  • Annex C Essential considerations for a good cleanliness assessment
  • C.1 Principle
  • C.2 Considerations
  • Annex D Methods for testing surface cleanliness for chemical concentration
  • D.1 Method selection
  • D.2 Criteria for the measurement of surface cleanliness for chemical concentration
  • Annex E Test record documentation
  • Bibliography

Foreword : Kata pengantar

ISO (Organisasi Internasional untuk Standardisasi) adalah federasi badan standar nasional (badan anggota ISO) di seluruh dunia.

Pekerjaan mempersiapkan Standar Internasional biasanya dilakukan melalui komite teknis ISO.

Setiap badan anggota yang tertarik pada suatu topik yang untuknya komite teknis telah dibentuk berhak untuk diwakili dalam komite tersebut.

Organisasi internasional, pemerintah dan non-pemerintah, bekerja sama dengan ISO, juga ambil bagian dalam pekerjaan tersebut.

ISO bekerja sama erat dengan International Electrotechnical Commission (IEC) dalam semua masalah standardisasi elektroteknik.

Prosedur yang digunakan untuk mengembangkan dokumen ini dan yang dimaksudkan untuk pemeliharaan lebih lanjut dijelaskan dalam Arahan ISO/IEC, Bagian 1.

Secara khusus, kriteria persetujuan yang berbeda yang diperlukan untuk berbagai jenis dokumen ISO harus diperhatikan.

Penyusunan Standar

Dokumen ini disusun sesuai dengan aturan editorial Arahan ISO/IEC, Bagian 2 (lihat www.iso.org/directives).

Perhatian diberikan pada kemungkinan bahwa beberapa elemen dari dokumen ini dapat menjadi subyek hak paten.

ISO tidak bertanggung jawab untuk mengidentifikasi salah satu atau semua hak paten tersebut.

Rincian hak paten apa pun yang diidentifikasi selama pengembangan dokumen akan ada di Pendahuluan dan/atau pada daftar pernyataan paten ISO yang diterima (lihat www.iso.org/patents).

Setiap nama dagang yang digunakan dalam dokumen ini adalah informasi yang diberikan untuk kenyamanan pengguna dan bukan merupakan suatu dukungan.

Tersedia pula halaman www.iso.org/iso/foreword.html untuk :

  • penjelasan tentang arti istilah dan ekspresi khusus ISO yang terkait dengan penilaian kesesuaian,
  • informasi tentang kepatuhan ISO terhadap prinsip-prinsip WTO dalam Technical Barriers to Trade (TBT).

Dokumen ini disiapkan oleh :

  • Technical Committee ISO/TC 209, Cleanrooms and associated controlled environments, atau :
  • Komite Teknis ISO/TC 209, Cleanrooms dan lingkungan terkendali terkait,

yang bekerja sama dengan :

  • European Committee for Standardization (CEN) Technical Committee CEN/TC 243, Cleanroom technology,
  • atau : Komite Teknis European Committee for Standardization (CEN) CEN/TC 243, teknologi ruang bersih,

sesuai dengan Perjanjian kerjasama teknis antara ISO dan CEN (Perjanjian Wina atau Vienna Agreement).

Edisi kedua ini membatalkan dan menggantikan edisi pertama (ISO 14644-10:2013), yang merupakan revisi kecil.

Perubahannya adalah sebagai berikut:

  • — istilah “Class” atau “Kelas” (“classification, classified” atau “klasifikasi, klasifikasi”) diubah menjadi “nilai atau penilaian” atau “grade or assessment” jika sesuai;
  • — ISO 14644-1 dipindahkan dari Klausul 2 ke Bibliografi dan ISO 14644-6 dihapus (dokumen ditarik);
  • — perubahan editorial kecil.

Mengenal ISO, IEC, WTO dan TBT Agreement

ISO (International Organization for Standardization) adalah suatu organisasi atau lembaga nirlaba internasional,

Tujuan dari ISO adalah untuk membuat dan memperkenalkan standar dan standardisasi internasional untuk berbagai tujuan.

Sebagaimana ISO, IEC juga merupakan suatu organisasi standardisasi internasional yang menyusun dan menerbitkan standar-standar internasional.

Namun ruang lingkupnya adalah untuk seluruh bidang elektrik, elektronik dan teknologi yang terkait atau bidang teknologi elektro (electrotechnology).

TBT Agreement (Technical Barriers to Trade) adalah perjanjian internasional mengenai hambatan teknis perdagangan di bawah kerangka Organisasi WTO (World Trade Organization).

WTO (World Trade Organization) adalah sebuah organisasi resmi internasional yang mengatur standar sistem perdagangan bebas di dunia.

Lebih jelas mengenai ISO, IEC, WTO dan TBT Agreement dapat dibaca pada artikel lain dari standarku.com berikut :

ISO 14644-10:2022 Klausa 1-3

1 Scope : Lingkup

Klausa ini sudah tercantum di bagian awal artikel ini, pada paragraf berjudul “Standar ISO 14644-10:2022”.

2 Referensi normatif

Tidak ada referensi normatif dalam dokumen ini.

3 Istilah dan definisi

Untuk tujuan dokumen ini, istilah dan definisi berikut berlaku.

ISO dan IEC memelihara database terminologi untuk digunakan dalam standardisasi di alamat berikut:

3.1 air cleanliness by chemical concentration (ACC) : kebersihan udara dengan konsentrasi kimia

tingkat, dinyatakan sebagai tingkat mutu ISO N, yang mewakili konsentrasi maksimum yang diizinkan dari spesies kimia tertentu atau kelompok spesies kimia, dinyatakan dalam gram per meter kubik (g/m3)

  • Catatan 1 : Definisi ini tidak termasuk makromolekul yang berasal dari biologi, yang dianggap sebagai partikel.

3.2 contaminant category : kategori kontaminan

nama umum untuk sekelompok senyawa dengan efek merusak yang spesifik dan serupa ketika disimpan di permukaan yang menarik

3.3 chemical contamination : kontaminasi kimia

zat kimia (non-partikulat) yang dapat memiliki efek merusak pada produk, proses, atau peralatan

3.4 solid surface : permukaan padat

batas antara fase padat dan fase kedua

3.5 surface : permukaan

batas antara dua fase

  • Catatan 1 : Salah satu fase biasanya merupakan fase padat dan fase lainnya berupa gas, cairan, atau padatan lainnya.

3.6 surface cleanliness by chemical concentration (SCC) : kebersihan permukaan dengan konsentrasi kimia

<kondisi> kondisi permukaan sehubungan dengan konsentrasi kimianya

3.7 surface cleanliness by chemical concentration (NSCC) : kebersihan permukaan dengan konsentrasi kimia

<matematika> logaritma umum (ke basis 10) dari konsentrasi kimia pada permukaan dalam gram per meter persegi (g/m2)

Daftar Pustaka atau Bibliography

1 – 13

  • [1] ISO 10312, Ambient air — Determination of asbestos fibres — Direct transfer transmission electron microscopy method
  • [2] ISO 14644-1, Cleanrooms and associated controlled environments — Part 1: Classification of air cleanliness by particle concentration
  • [3] ISO 14644-8, Cleanrooms and associated controlled environments — Part 8: Assessment of air cleanliness for chemical concentration (ACC)
  • [4] ISO 14644-9, Cleanrooms and associated controlled environments — Part 9: Assessment of surface cleanliness for particle concentration
  • [5] ISO 17052, Rubber, raw — Determination of residual monomers and other volatile low-molecular-mass compounds by capillary gas chromatography — Thermal desorption (dynamic headspace) method
  • [6] ISO 18115-1, Surface chemical analysis — Vocabulary — Part 1: General terms and terms used in spectroscopy
  • [7] ISO 18116, Surface chemical analysis — Guidelines for preparation and mounting of specimens for analysis
  • [8] JACA 43, Standard for evaluation methods on substrate surface contamination in cleanrooms and associated controlled environments
  • [9] JIS K 0311:2005, Method for determination of tetra- through octa-chlorodibenzo-p-dioxins, tetra- through octa-chlorodibenzofurans and co-planar polychlorobiphenyls in stationary source emissions
  • [10] SEMI E46-0307, Test method for the determination of organic contamination from minienvironments using ion mobility spectrometry (IMS)
  • [11] Fujimoto T., Takeda K., Nonaka T. Airborne Molecular Contamination: Contamination on Substrates and the Environment in Semiconductors and Other Industries. In: Developments in Surface Contamination and Cleaning: Fundamentals and Applied Aspects, (Kohli R., Mittal K.L., eds.). William Andrew Publishing, Norwich, New York, 2007, pp. 329–474
  • [12] Birch W., Carre A., Mittal K.L. Wettability in Surface Contamination and Cleaning. In: Developments in Surface Contamination and Cleaning: Fundamentals and Applied Aspects, (Kohli R., Mittal K.L., eds.). William Andrew Publishing, Norwich, New York, 2007, pp. 693–724
  • [13] Fujimoto T., Nonaka T., Takeda K. et al. “Study on Airborne Molecular Contaminants in Atmosphere and on Substrate Surfaces.” Proceedings of the 18th ICCCS. Beijing: International Symposium on Contamination Control, 2006

14 – 19

  • [14] Beckhoff B., Fabry L. et al. “Ultra-Trace Analysis of Light Elements and Speciation of Minute Organic Contaminants on Silicon Wafer Surfaces by Means of TXRF in Combination with NEXFS.” Proceedings of ALTECH 2003 (Analytical Techniques for Semiconductor Materials and Process Characterization IV), 203rd Electrochemical Society Meeting, Paris, 27 April–2 May, 2003
  • [15] Wang J., Balazs M. et al. “How Low Can the Detection Limit Go with VPD-TXRF?” Proceedings of the 2001 SPWCC (Semiconductor Pure Water Chemicals Conference), 362–369. Pennington, New Jersey: The Electrochemical Society, 2001
  • [16] Evans K., Anderson T.A. Instrumental analysis techniques. In: Microelectronics Failure Analysis: Desk Reference, (Electronic Device Failure Analysis Society Desk Reference Committee, ed.) ASM International, Materials Park, Ohio, Fourth Edition, 1999, pp. 343–51
  • [17] Vanderlinde W. Energy dispersive X-ray analysis. In: Microelectronics Failure Analysis: Desk Reference, (Electronic Device Failure Analysis Society Desk Reference Committee, ed.), ASM International, Materials Park, Ohio, Fifth Edition, 2004, pp. 628–39
  • [18] Budde K., Holtzapfel W. “Determination of Contaminants on Substrate Surface Using IMS/MS and GC/MS.” Proceedings of SEMICON Europa (1997 and 2000, Munich, Germany). San Jose, California: SEMI, 2000
  • [19] Chia V.K.F., Edgell M.J. On-Wafer Measurement of Molecular Contaminants. In: Contamination-Free Manufacturing for Semiconductors and Other Precision Products, (DONAVAN R.P., ed.). M. Dekker Press, New York, 2001, pp. 117–48

Penutup

Demikian artikel dari standarku.com mengenai Standar ISO 14644-10:2022.

Mohon saran dari pembaca untuk kelengkapan isi artikel ini, silahkan saran tersebut dapat disampaikan melalui kolom komentar.

Baca artikel lain :

Sumber referensi :

Leave a Comment